[°æ·Â] R&D_ƯÇã°³¹ß | ´ã´ç ¾÷¹« 1. ±¹³»¿Ü ƯÇã Ãâ¿ø¼­ ÀÛ¼º ¹× µî·Ï 2. ƯÇã Àü·« ¼ö¸³ 3. ƯÇã µ¥ÀÌÅÍ °ü¸® ¹× ÇÁ·Î¼¼½º °ü¸® | Áö¿ø ÀÚ°Ý [Çʼö ÀÚ°Ý] 1) ƯÇã °ü·Ã ºÐ¾ß¿¡¼­ 3³â ÀÌ»ó °æ·Â º¸À¯ (ƯÇã»ç¹«¼Ò, ±â¾÷ ƯÇãÆÀ µî) 2) ±¹³»¿Ü ƯÇã Ãâ¿ø ¹× µî·Ï ¾÷¹« °æÇè 3) ¿µ¾î ´ÉÅëÀÚ (ƯÈ÷ ƯÇã °ü·Ã ¹®¼­ ÀÛ¼º ¹× °ËÅä ´É·Â) [¿ì´ë »çÇ×] 1) ƯÇã °ü¸® ½Ã½ºÅÛ(Patent Management System) »ç¿ë °æÇè 2) ¼±ÇàƯÇã Á¶»ç ºÐ¼® ¾÷¹« °æÇè | ±Ù¹« Á¶°Ç 1. ±Ù¹«ÀϽà : ÁÖ 5ÀÏ(¿ù~±Ý) 8½Ã ~ 17½Ã 2. ±Ù¹«ÇüÅ : Á¤±ÔÁ÷ 3. ±Ù¹«Àå¼Ò - Çѱ¹Å¸À̾î¾ØÅ×Å©³î·ÎÁö Å×Å©³ëµ¼ (´ëÀü±¤¿ª½Ã À¯¼º±¸ À¯¼º´ë·Î 935¹ø±æ 50)