Çʼö È®ÀÎ Á¤º¸
ä¿ë ±â¾÷
SK¸ÓƼ¸®¾óÁî ÆÛÆ÷¸Õ½º
ä¿ë À¯Çü
½ÅÀÔ/ÀÎÅÏ
¸ðÁý Àοø
0¸í
±Ù¹« Áö¿ª
¼¼Á¾
¸ðÁý Á÷¹«
¼ÒÀç±â¼ú
Á¢¼ö ±â°£
2025.09.16 09:00 ~ 2025.09.29 18:00
°í¿ë ÇüÅÂ
Á¤±ÔÁ÷
ÁÖ¿ä ¾÷¹«
1. ÁÖ¿ä ¾÷¹«
¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß
- Á¶¼º ¼³°è ¹× ÇÙ½É ¿øÀç·á(Resin/PAG µî) ±¸Á¶ Design
- Litho Æò°¡ DOE ¼ö¸³ / Æò°¡ Data ÇØ¼® / Trouble-Shooting
- Á¦Ç°°³¹ß °ü·Ã °í°´»ç ±â¼ú Áö¿ø(ºÒ·® ¿øÀÎ ºÐ¼® µî)
2. ÀÚ°Ý¿ä°Ç
- Çз : ¼®»ç ÀÌ»ó
- Àü°ø : ÈÇÐ, Àç·á, °íºÐÀÚ °è¿ Àü°ø
- ÇØ¿Ü¿©Çà ¹× ±Ù¹«¿¡ °á°Ý»çÀ¯°¡ ¾ø´Â ÀÚ
- º´¿ª´ë»óÀÚÀÇ °æ¿ì, º´¿ªÇÊ ¶Ç´Â ¸éÁ¦ÀÚ
- ¿ì´ë»çÇ× : Photo Resist °³¹ß ¶Ç´Â ¿øÀç·á °³¹ß °æÇè º¸À¯ÀÚ
3. ±Ù¹«Áö
- ¼¼Á¾
* Áö¿ø¼ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.
* ¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù.