Çʼö È®ÀÎ Á¤º¸ ä¿ë ±â¾÷ SK¸ÓƼ¸®¾óÁî ÆÛÆ÷¸Õ½º ä¿ë À¯Çü ½ÅÀÔ/ÀÎÅÏ ¸ðÁý Àοø 0¸í ±Ù¹« Áö¿ª ¼¼Á¾ ¸ðÁý Á÷¹« ¼ÒÀç±â¼ú Á¢¼ö ±â°£ 2025.09.16 09:00 ~ 2025.09.29 18:00 °í¿ë ÇüÅ Á¤±ÔÁ÷ ÁÖ¿ä ¾÷¹« 1. ÁÖ¿ä ¾÷¹« ¹ÝµµÃ¼¿ë Photo Resist °³¹ß - Á¶¼º ¼³°è ¹× ÇÙ½É ¿øÀç·á(Resin/PAG µî) ±¸Á¶ Design - Litho Æò°¡ DOE ¼ö¸³ / Æò°¡ Data ÇØ¼® / Trouble-Shooting - Á¦Ç°°³¹ß °ü·Ã °í°´»ç ±â¼ú Áö¿ø(ºÒ·® ¿øÀÎ ºÐ¼® µî) 2. ÀÚ°Ý¿ä°Ç - Çз : ¼®»ç ÀÌ»ó - Àü°ø : È­ÇÐ, Àç·á, °íºÐÀÚ °è¿­ Àü°ø - ÇØ¿Ü¿©Çà ¹× ±Ù¹«¿¡ °á°Ý»çÀ¯°¡ ¾ø´Â ÀÚ - º´¿ª´ë»óÀÚÀÇ °æ¿ì, º´¿ªÇÊ ¶Ç´Â ¸éÁ¦ÀÚ - ¿ì´ë»çÇ× : Photo Resist °³¹ß ¶Ç´Â ¿øÀç·á °³¹ß °æÇè º¸À¯ÀÚ 3. ±Ù¹«Áö - ¼¼Á¾ * Áö¿ø¼­ ³»¿ë Áß ÇãÀ§»ç½ÇÀÌ ÀÖ´Â °æ¿ì¿¡´Â ÇÕ°ÝÀÌ Ãë¼ÒµÉ ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù. * ¼ºº°/º¸ÈÆ´ë»óÀÚ/Àå¾Ö ¿©ºÎ´Â ä¿ë °úÁ¤¿¡¼­ ¾î¶°ÇÑ ºÒÀÌÀ͵µ ¹ÌÄ¡Áö ¾Ê½À´Ï´Ù.