[±Û·Î¹ú žƼ¾î ¹ÝµµÃ¼ ±â¾÷]
Dry Etch (ÇØ¿Ü ±Ù¹«)
¸ðÁýºÎ¹® ¹× ÀÚ°Ý¿ä°Ç
¸ðÁýºÎ¹® | ´ã´ç¾÷¹« | ÀÚ°Ý¿ä°Ç | Àοø |
---|---|---|---|
Dry Etch |
[´ã´ç¾÷¹«] - °í±Þ DRAM ±¸Á¶¸¦ À§ÇÑ µå¶óÀÌ ¿¡Äª °øÁ¤ÀÇ °³¹ß, Ư¼ºÈ ¹× ÃÖÀûÈ ÁÖµµ - ÅëÇÕ, °èÃø, Àåºñ ¹× R&D ÆÀ°ú ºÎ¼ °£ Çù¾÷ÇÏ¿© ÇÁ·Î¼¼½º °ß°í¼º°ú Á¦Á¶ °¡´É¼ºÀ» º¸Àå - ÇöóÁ ¿¡Äª ¸ÞÄ¿´ÏÁò, °øÁ¤ Á¦¾î ¹× °áÇÔ ¿ÏÈ¿¡ ´ëÇÑ ±íÀº ÀÌÇØ |
[ÀÚ°Ý¿ä°Ç] - °øÇÐ ¼®»ç ÀÌ»ó - µå¶óÀÌ ¿¡Äª °øÁ¤ °³¹ß, °¡±ÞÀûÀ̸é DRAM ¶Ç´Â °í±Þ ¸Þ¸ð¸® ±â¼ú¿¡ ´ëÇÑ 8³âÀÇ ½Ç¹« °æÇè. - ¾÷¹«»ó ÇÊ¿äÇÑ ¿µ¾î ¼ÒÅë ´É·Â Çʼö |
0 ¸í |
±Ù¹«Á¶°Ç
ÀüÇü´Ü°è ¹× Á¦Ãâ¼·ù
Á¢¼ö¹æ¹ý
ä¿ë½Ã
±âŸ À¯ÀÇ»çÇ×
00